ウェットプロセスによるハイバリア技術

概要

有機ELは水蒸気により速い劣化が進行するため、フレキシブル化にはハイバリア構造が必要です。バリア構造は、無機膜を真空プロセスにて成膜するのが一般的ですが、当研究室では、ウェットプロセス・室温・真空紫外光焼成（波長172nm）によりハイバリア構造の形成に成功しています。本技術はバリアが必要な広い産業に利用可能です。

連携期間、連携先

連携期間：2016年～現在
連携先：部材メーカー、材料メーカー、公的プログラム

成果

すでにウェットプロセスとして世界最高のバリア性能を達成しています。光緻密化過程の詳細も分かってきており、現在急激にバリア性能が向上しています。同時にインクジェット等のデジタルファブリケーションの研究も進めています。

活用できた拠点の特徴など、PR

既存技術の延長ではない、産業における真のイノベーションを起こすための基礎的研究も推進しています。これら新規技術では公的資金を獲得し、産業応用可能なレベルまで開発できることが、当研究室の特徴です。